Idealnie czysta skóra w zaledwie 10 minut? Detoksykująca maska L'Oréal Paris Pure Clay poradzi sobie z tym wyzwaniem. Delikatna i przyjemna kremowa formuła łączy w sobie oczyszczające właściwości glinki z aktywnym węglem drzewnym, co zapewnia synergicznie działanie oczyszczające pory skóry niczym magnes z głęboko osadzonych zanieczyszczeń.

Skóra po zastosowaniu maski jest czysta, aksamitnie gładka i promienna oraz pozbawiona toksyn środowiskowych, których nie sposób uniknąć we współczesnym świecie. Skorzystaj z dobroczynnych właściwości substancji aktywnych, pochodzących z głębi ziemi i pozwól swojej skórze w pełni odetchnąć.

Właściwości:

• usuwa zanieczyszczenia i nadmiar sebum
• sprawia, że skóra staje się gładka i pełna blasku
• odświeża i nadaje cerze jednolity koloryt
• niewysuszająca formuła

Skład:

• glinka montmorylonitowa – głęboko oczyszcza skórę
• japoński węgiel aktywny – absorbuje zanieczyszczenia osadzone głęboko w skórze
• kwas glikolowy

Sposób użycia:
Równomierną warstwę maski aplikuj na oczyszczoną i osuszoną skórę. Unikaj okolic oczu i ust. Pozostaw na 10–15 minut, aż do szarego odcienia maski. Następnie spłucz ciepłą wodą lub zmyj zwilżoną ściereczką do twarzy. Aby uzyskać najlepsze rezultaty, stosuj 3 razy w tygodniu.