Odkryj pielęgnację na najwyższym poziomie z Garnier Skin Naturals Pure Charcoal

Garnier Skin Naturals Pure Charcoal czarna maska tekstylna z ekstraktem z czarnej herbaty to profesjonalne rozświetlenie i ukojenie skóry, które możesz osiągnąć we własnym domu. Dedykowana potrzebom skóry zmęczonej, o nierównym kolorycie oraz skłonnej do niedoskonałości, maska przynosi natychmiastowy efekt odświeżenia. Wyjątkowe połączenie kwasu hialuronowego i ekstraktu z czarnej herbaty działa niczym intensywna terapia nawilżająca, zapewniając idealne rozpoczęcie lub wykończenie dnia.

Idealna dla osób szukających prostego, a zarazem skutecznego sposobu na poprawę kondycji cery. Maska doskonale sprawdzi się zarówno przed ważnym wydarzeniem, jak i jako regularny element Twojej rutyny pielęgnacyjnej. Jej praktyczna forma i szybkie działanie czynią ją idealnym produktem dla zabieganych osób, które chcą cieszyć się zdrowym blaskiem skóry o każdej porze.

Właściwości:

• nawilża i wygładza skórę
• rozświetla cerę i przywraca jej zdrowy blask
• łagodzi podrażnienia i zmniejsza widoczność porów
• odpowiednia do stosowania na dzień i na noc
• zapewnia odczuwalne odświeżenie już po pierwszym użyciu
• łatwa w aplikacji, idealna dla każdego typu cery
• wzbogacona w ekstrakty roślinne o działaniu nawilżającym

Skład:

• ekstrakt z czarnej herbaty o właściwościach odświeżających
• kwas hialuronowy o działaniu nawilżającym
• węgiel aktywny znany z właściwości oczyszczających
• gliceryna dla poprawy elastyczności skóry

Jak aplikować:
Na czystą i suchą skórę twarzy nałóż maskę, dostosowując ją tak, aby dobrze przylegała do konturów twarzy. Pozostaw na 15 minut, a następnie zdejmij maskę i delikatnie wmasuj pozostałość serum w skórę, bez spłukiwania. Możesz stosować zarówno rano, aby odświeżyć cerę, jak i wieczorem w ramach relaksującej rutyny pielęgnacyjnej.

Wskazówka Notino:
Aby wzmocnić efekty pielęgnacyjne, przed nałożeniem maski sięgnij po żel myjący Garnier Pure Active, który dogłębnie oczyści skórę i przygotuje ją do lepszego wchłaniania składników aktywnych maski.